皮皮学，免费搜题
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【单选题】
饱和土样受到外力 σ 作用,在外力施加后的一瞬间,土的有效应力为( )。A.
0
B.
σ
C.
u
D.
σ + u
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参考答案：
参考解析：
知识点：
皮皮学刷刷变学霸
举一反三
【单选题】在PowerPoint中,下列有关幻灯片母版中页眉页脚的说法中错误的是( )。
A.
页眉或页脚是添加在演示文稿中的注释性内容
B.
典型的页眉页脚内容是日期、时间以及幻灯片编号
C.
在打印幻灯片时，页眉页脚的内容也可打印出来
D.
不能设置页眉和页脚的文本格式
【多选题】下面关于集中CVD方法描述正确的是（）。C. 做CVD淀积钨时，采用六氟化钨WF6作为气体源，六氟化钨能
与衬底窗口处的硅反应，而不与二氧化硅、氮化硅反应,
所以钨可以选择性地沉积在硅接触窗口中。
A.
等离子体增强化学气相淀积(PECVD)是目前最主要的化学气相淀积系统，低温淀积是其最主要优点。
B.
低压化学气相淀积系统（LPCVD）淀积的某些薄膜，在均匀性和台阶覆盖等方面比APCVD系统的要好，而且污染也少。
【单选题】无公害农产品种植业产地环境条件中,灌溉水的指标包括 四类。
A.
水田、旱地、菜地、食用菌
B.
粮食、经济作物、蔬菜、食用菌
C.
林地、菜地、粮食、食用菌
D.
牧场、菜地、粮食、食用菌
【多选题】下面关于几种CVD方法的描述正确的是（）。D. 做CVD淀积钨时，采用六氟化钨WF6作为气体源，六氟化钨能
与衬底窗口处的硅反应，而不与二氧化硅、氮化硅反应,
所以钨可以选择性地沉积在硅接触窗口中。
A.
LPCVD不能淀积二氧化硅薄膜
B.
等离子体增强化学气相淀积(PECVD)是目前最主要的化学气相淀积系统，低温淀积是其最主要优点。
C.
低压化学气相淀积系统（LPCVD）淀积的某些薄膜，在均匀性和台阶覆盖等方面比APCVD系统的要好，而且污染也少。
【简答题】潜在客户的特征 ?
【多选题】下面关于几种CVD方法描述正确的是（）。C. 做CVD淀积钨时，采用六氟化钨WF6作为气体源，六氟化钨能
与衬底窗口处的硅反应，而不与二氧化硅、氮化硅反应,
所以钨可以选择性地沉积在硅接触窗口中。
A.
等离子体增强化学气相淀积(PECVD)是目前最主要的化学气相淀积系统，低温淀积是其最主要优点。
B.
低压化学气相淀积系统（LPCVD）淀积的某些薄膜，在均匀性和台阶覆盖等方面比APCVD系统的要好，而且污染也少。
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A.
水田、旱地、菜地、食用菌
B.
粮食、经济作物、蔬菜、食用菌
C.
林地、菜地、粮食、食用菌
D.
牧场、菜地、粮食、食用菌