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【单选题】
对大环内酯类耐药的某些细菌可能对克林霉素结构性或诱导性耐药，故对此类细菌需进行克林霉素诱导试验（D试验）。关于葡萄球菌属D试验纸片扩散法，下列叙述错误的是（）A.
培养基可采用M-H琼脂或用于MIC测试的血琼脂平板
B.
纸片含量分别为红霉素15μg和克林霉素2μg
C.
35±2）℃，空气，18～24h
D.
边缘相距15～26mm
E.
金黄色葡萄球菌ATCC25923用于纸片扩散法常规质量控制
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知识点：
皮皮学刷刷变学霸
举一反三
【单选题】光刻工艺是按照下列哪种流程顺序进行操作?
A.
打底膜、前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、刻蚀、去胶
B.
打底膜、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶、刻蚀
C.
打底膜、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、刻蚀、去胶
D.
打底膜、涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、刻蚀、去胶
【单选题】发热时体温每升高 prefix="st1" ns="urn:schemas-microsoft-com:office:smarttags" 1 0C , 基础代谢率一般可提高 ?xml:namespace>
A.
3%
B.
5%
C.
10%
D.
13%
【单选题】光刻工艺是按照下列哪种流程顺序进行操作？
A.
打底膜、涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、刻蚀、去胶
B.
打底膜、前烘、 涂胶、 曝光、坚膜、显影、刻蚀、去胶
C.
打底膜、 涂胶、 前烘、 曝光、 显影、 坚膜、刻蚀、去胶
D.
打底膜、 涂胶、 前烘、 曝光、 显影、 坚膜、去胶 、刻蚀
【单选题】光刻工艺是按照下列哪种流程顺序进行操作?
A.
打底膜、涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、刻蚀、去胶
B.
打底膜、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、刻蚀、去胶
C.
打底膜、前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、刻蚀、去胶
D.
打底膜、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶、刻蚀
【单选题】光刻工艺是按照下列哪种流程顺序进行操作?
A.
打底膜、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、去胶、刻蚀；
B.
打底膜、涂胶、前烘、曝光、坚膜、显影、刻蚀、去胶；
C.
打底膜、前烘、涂胶、曝光、坚膜、显影、刻蚀、去胶；
D.
打底膜、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、刻蚀、去胶 .
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