美国化学家R.F.Heck因发现如下Heck反应而获得2010年化学奖。 （X为卤原子，R为取代基） 经由Heck反应合成M（一种防晒剂）的路线如下： 回答下列问题： （1）M可发生的反应类型是______________。 a.取代反应         b.酯化反应 c.缩聚反应             d.加成反应 （2）C与浓H 2 SO 4 共热生成F，F能使酸性KMnO 4 溶液褪色，F的结构是__________。 D在一定条件下反应生成高分子化合物G，G的结构是__________。 （3）在A → B的反应中，检验A是否反应完全的试剂是_______________。 （4）E的一种同分异构体K符合下列条件：苯环上有两个取代基且苯环上只有两种不同化学环境的氢，与FeCl 3 溶液作用显紫色。K与过量NaOH溶液共热，发生反应的方程式为__________。