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【多选题】
编制设备制造过程进度控制监理工作细则内容包括( )。
A.
出现进度问题的方法和程序
B.
设备监理人员的具体分工
C.
设备制造过程进度控制的主要工作内容和深度
D.
进度控制的方法,包括各项监理工作的时间安排,进度检查日期,收集数据和进度报表形式,数据统计分析方法等
E.
设备制造总进度计划
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参考答案:
参考解析:
知识点:
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皮皮学刷刷变学霸
举一反三
【单选题】书写中枢位于
A.
额上回前部
B.
额上回后部
C.
额中回前部
D.
额中回后部
【单选题】配位滴定中滴定某一金属离子的最低pH条件由下列哪一项决定
A.
由金属离子的水解pH决定
B.
由酸效应系数和金属离子准确滴定的判据决定
C.
由金属离子生成沉淀的pH决定
D.
由共存离子的水解pH决定
【单选题】书写中枢位于
A.
颞上回后部
B.
顶下小叶的角回
C.
中央后回
D.
额中回后部
E.
额下回后部
【多选题】以下叙述正确的是
A.
配位反应中的配位剂为有机配位剂
B.
EDTA在酸性溶液中与金属离子配位能力较强
C.
在配位滴定中滴定金属离子最适宜酸度条件是高于最低pH,低于最高pH
D.
采用掩蔽法对某一离子进行滴定后,将已被掩蔽的离子释放出来,这种方法称为掩蔽
【单选题】书写中枢位于
A.
中央后回和中央旁小叶后部
B.
额中回后部
C.
角回
D.
额下回后部
【多选题】多栏式明细账分类账又可以分为( )。
A.
借方多栏式明细账
B.
贷方多栏式明细账
C.
借方贷方多栏式明细账
D.
对方科目多栏式明细账
【单选题】书写中枢位于
A.
中央后回和中央旁小叶后部
B.
额中回后部
C.
角回
D.
额下回后部
E.
缘上回
【单选题】书写中枢位于
A.
额中回后部
B.
额下回后部
C.
颞中回后部
D.
颞下回后部
E.
颞横回
【单选题】书写中枢位于
A.
额中回后部
B.
额上回后部
C.
颞中回后部
D.
颞上回后部
【判断题】 半导体的电阻率随光照的不同而改变。利用半导体的这一特性,可以把它作为光敏材料制成光电器件。
A.
正确
B.
错误
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