硅单质及其化合物应用范围很广。 （1）制备硅半导体材料必须先得到，工业上可以按如下步骤制备纯硅： Ⅰ.高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅 Ⅱ.粗硅与干燥的氯气在450 ℃～500 ℃ 反应制得SiCl 4 Ⅲ.  S iCl 4 液体经精馏提纯后与过量H 2 在1100 ℃～1200 ℃ 反应制得纯硅 已知SiCl 4 沸点为57.6 ℃，能与H 2 O强烈反应。1 mol H 2 与SiCl 4 气体完全反应吸收的热量为120.2 kJ。请回答下列问题： ① 第Ⅰ步制备粗硅的化学反应方程式为 ，第Ⅲ步反应的热化学方程式是 。 ②整个制备纯硅过程必须严格控制无水无氧。SiCl 4 在潮湿的空气中因水解而产生白色烟雾，其生成物是 ；H 2 还原SiCl 4 过程中若混O 2 ，可能引起的后果是 。 （2）二氧化硅大量用于生产玻璃。工业上用SiO 2 、Na 2 CO 3 和CaCO 3 共283 kg在高温下完全反应时放出CO 2 44 kg，生产出的玻璃可用化学式Na 2 SiO 3 ·CaSiO 3 · x SiO 2 表示，则其中 x ＝ 。