皮皮学，免费搜题
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【单选题】
在微机系统中，I/O接口位于之间 。A.
主机和总线
B.
主机和I/O设备
C.
总线和I/O设备
D.
CPU和内存设备
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参考答案：
参考解析：
知识点：
皮皮学刷刷变学霸
举一反三
【简答题】四不放过原则：( )不放过、( )不放过、整改措施未落实不放过、( )不放过。
【多选题】曝光技术有① 曝光，是将 直接与涂有光刻胶的基片接触，容易 掩模板，但曝光没有 的影响。② 曝光，掩模板和基片之间保持 ，避免掩模板被 ，提高了掩模板的 ，但曝光时光的 和 会使曝光边界不清晰，降低 。③ 曝光，分 投影曝光（掩模图形 地复制到基片上）和 投影曝光（掩模板图形的像会 地复制到基片上，对掩模板的 可以相应降低）。
A.
接触式
B.
掩模板
C.
损坏
D.
光衍射
E.
接近式
F.
很近的距离
G.
玷污和损伤
H.
使用寿命
I.
衍射
J.
干涉
【简答题】处理生产安全事故应本着“四不放过”，即( )不放过;( )不放过;( )不放过;责任者没有受到处罚不放过。
【简答题】发生事故后要坚持“四不放过”的处理原则，即()不放过; ()不放过;()不放过;()不放过。
【单选题】事故的”四不放过”处理原则是( )。
A.
”不放过赔偿，不放过组长，不放过安全主任，不放过法人代表”
B.
”原因未查清不放过，责任没处理不放过，没得到教育不放过，防范措施没落实不放过”
C.
“不放过抢救，不放过检讨，不放过处罚，不放过安全主任”
【单选题】下列关于曝光后烘烤的说法正确的是（）。
A.
烘烤的目的是除去光刻胶中的水分
B.
烘烤可以减轻曝光中的驻波效应
C.
烘烤的温度一般在300℃左右
D.
烘烤的时间越长越好
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