真空烤瓷炉对其温度参数和时间参数进行精密的控制。在使用中要求操作人员按严格的程序进行操作。真空烤瓷炉的温度参数和时间参数主要包括( )。A、预热温度,烤瓷温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间 B、预热温度,烤瓷温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间 C、现时温度,烤瓷温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间 D、现时温度,最终温度,预热时间,升温时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间 E、现时温度,最终温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间 在烤瓷过程中有一道工艺叫上釉,上釉有两种方法:自行上釉和分别上釉,其中自行上釉要求把烧好的瓷体在高于体瓷烧熔温度下保持数分钟,高于体瓷烧熔温度的范围是( )。A、31~40℃ B、21~30℃ C、10℃以内 D、11~20℃ E、5℃ 在烤瓷过程中不能使烤瓷件与炉膛内壁接触,如果接触,可能造成的最严重的后果是( )。A、烤瓷失败 B、烤瓷失败,烤瓷件报废 C、烤瓷件与炉膛内壁发生粘连 D、炉膛报废 E、发热体损坏