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【单选题】
有以下程序 void f(int *q) {inti=0; for(;i<5;i++) (*q)++; } main() {int a[5]={1,2,3,4,5},i; f(a); for(i=0;i<5;i++)printf('%d,',a[i]); } 程序运行后的输出结果是
A.
2,2,3,4,5,
B.
6,2,3,4,5,
C.
1,2,3,4,5,
D.
2,3,4,5,6,
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参考解析:
知识点:
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皮皮学刷刷变学霸
举一反三
【判断题】水玻璃的模数越高,则其密度和黏度越大,硬化速度越快,硬化后的粘结力与强度、耐热性耐酸性越高。
A.
正确
B.
错误
【单选题】产甲烷菌所进行的无氧呼吸是( )
A.
硫酸盐呼吸
B.
碳酸盐呼吸
C.
硝酸盐呼吸
D.
延胡索酸呼吸
【简答题】制备半导体材料时发生如下反应,其相应的热力学数据如下: SiO2(s)+2C(s)===Si(s)+2CO(g) △fmθ(298.15 K)/(kJ.mol-1) 一903.5 0 0 一110.5 △fGmθ(298.15 K)/(kJ.mol-1) 一850.7 0 0 —1 37.2 试通过计算回答:(1)标准状态下,298.15 K时,反应能否自发进行? (2)标准状态下,反应自发进行的...
【简答题】什么是一般杂质?什么是特殊杂质?分别举例说明?
【单选题】下列药物中,间氨基酚是特殊杂质的是
A.
葡萄糖注射液
B.
对氨基水杨酸钠
C.
盐酸普鲁卡因胺
D.
注射用盐酸普鲁卡因胺
E.
盐酸利多卡因
【单选题】产甲烷菌所进行的无氧呼吸是
A.
硝酸盐呼吸
B.
硫酸盐呼吸
C.
碳酸盐呼吸
D.
延胡索酸呼吸
【简答题】制备半导体材料时发生如下反应: SiO2 (s)+ 2C(s,石墨) =Si (s)+2CO (g) 通过计算回答下列问题: (1) 标准状态下反应热是多少?是放热反应还是吸热反应? (2) 标准状态下, 298K时,反应能否自发进行?
【判断题】水玻璃的模数越高,则其密度和黏度越大,硬化速度越快,硬化后的粘结力与强度、耐热性耐酸性越高 。
A.
正确
B.
错误
【单选题】易透过血脑屏形障,成核黄疸的物质是
A.
胆绿素
B.
胆素原
C.
胆红素
D.
未结合胆红素
【单选题】产甲烷菌所进行的无氧呼吸是( )。
A.
碳酸盐呼吸
B.
硝酸盐呼吸
C.
硫酸盐呼吸
D.
延胡索酸呼吸
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