皮皮学，免费搜题
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【单选题】
下列属于鲁菜的代表菜是?A.
九转大肠
B.
宫保鸡丁
C.
麻婆豆腐
D.
盐水鸭
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参考答案：
参考解析：
知识点：
皮皮学刷刷变学霸
举一反三
【多选题】下面关于集中CVD方法描述正确的是（）。C. 做CVD淀积钨时，采用六氟化钨WF6作为气体源，六氟化钨能
与衬底窗口处的硅反应，而不与二氧化硅、氮化硅反应,
所以钨可以选择性地沉积在硅接触窗口中。
A.
等离子体增强化学气相淀积(PECVD)是目前最主要的化学气相淀积系统，低温淀积是其最主要优点。
B.
低压化学气相淀积系统（LPCVD）淀积的某些薄膜，在均匀性和台阶覆盖等方面比APCVD系统的要好，而且污染也少。
【多选题】下列有关添加页眉和页脚的描述，正确的是：（）
A.
执行过该命令的旧文档，可以重复使用“添加页眉和页脚”对话框来进行新页眉和页脚的添加
B.
不同于页面缩略图标签选项中的编排页码，“添加页眉和页脚”选项添加的页码，直接被添加到了文档的实际页面上
C.
通过对“页面范围”选项的指定，可以将不同的页眉或页脚添加到文档的奇偶页上
D.
在“页码和日期格式“选项中可以自定义所需的页码样式
【单选题】无公害农产品种植业产地环境条件中,灌溉水的指标包括 四类。
A.
水田、旱地、菜地、食用菌
B.
粮食、经济作物、蔬菜、食用菌
C.
林地、菜地、粮食、食用菌
D.
牧场、菜地、粮食、食用菌
【多选题】下面关于几种CVD方法的描述正确的是（）。D. 做CVD淀积钨时，采用六氟化钨WF6作为气体源，六氟化钨能
与衬底窗口处的硅反应，而不与二氧化硅、氮化硅反应,
所以钨可以选择性地沉积在硅接触窗口中。
A.
LPCVD不能淀积二氧化硅薄膜
B.
等离子体增强化学气相淀积(PECVD)是目前最主要的化学气相淀积系统，低温淀积是其最主要优点。
C.
低压化学气相淀积系统（LPCVD）淀积的某些薄膜，在均匀性和台阶覆盖等方面比APCVD系统的要好，而且污染也少。
【多选题】下面关于几种CVD方法描述正确的是（）。C. 做CVD淀积钨时，采用六氟化钨WF6作为气体源，六氟化钨能
与衬底窗口处的硅反应，而不与二氧化硅、氮化硅反应,
所以钨可以选择性地沉积在硅接触窗口中。
A.
等离子体增强化学气相淀积(PECVD)是目前最主要的化学气相淀积系统，低温淀积是其最主要优点。
B.
低压化学气相淀积系统（LPCVD）淀积的某些薄膜，在均匀性和台阶覆盖等方面比APCVD系统的要好，而且污染也少。
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A.
水田、旱地、菜地、食用菌
B.
粮食、经济作物、蔬菜、食用菌
C.
林地、菜地、粮食、食用菌
D.
牧场、菜地、粮食、食用菌